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  • 陶瓷纤维真空炉陶瓷纤维真空炉

    最高温度:1700℃
    真 空  度:≤6.67X10⁻³Pa
    工艺应用:用于金属退火、回火、正火、半导体热处理及复合材料成型等。

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  • 钼带真空炉钼带真空炉

    最高温度:1400℃
    真 空  度:≤6.67X10⁻³Pa
    工艺应用:用于对材料纯度要求高的热处理(如半导体材料、航空航天合金)。

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  • 石墨真空炉石墨真空炉

    最高温度:2200℃
    真 空  度:≤6.67X10⁻³Pa
    工艺应用:用于金属材料、半导体材料和高级陶瓷等的高温烧结、回火、退火等。

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