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热销产品: 管式炉 真空炉 气氛炉 箱式炉 CVD/PECVD
最高温度:1700℃ 真 空 度:≤6.67X10⁻³Pa 工艺应用:用于金属退火、回火、正火、半导体热处理及复合材料成型等。
最高温度:1400℃ 真 空 度:≤6.67X10⁻³Pa 工艺应用:用于对材料纯度要求高的热处理(如半导体材料、航空航天合金)。
最高温度:2200℃ 真 空 度:≤6.67X10⁻³Pa 工艺应用:用于金属材料、半导体材料和高级陶瓷等的高温烧结、回火、退火等。