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热销产品： 管式炉 真空炉 气氛炉 箱式炉 CVD/PECVD
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分类：管式炉案例 阅读： 次 时间：2025-09-11
案例简介：t1N河南鸿炉科技
用户单位：郑州某研究所t1N河南鸿炉科技
设备名称：三温区立式流化床t1N河南鸿炉科技
工作温度：≤1200℃t1N河南鸿炉科技
设备用途：用于氧化铝粉末表面沉积的CVD实验。t1N河南鸿炉科技
客户现场实拍图t1N河南鸿炉科技 t1N河南鸿炉科技
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