三温区PECVD
分类：管式炉案例 阅读： 次 时间：2025-09-11
案例简介
设备介绍：这款PECVD设备由管式炉、真空系统、气体供应系统、射频电源系统等组成。该PECVD通过射频电源将石英真空室中的气体改变为离子状态，等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。 该系统主要用于金属粉末镀膜中。
用户单位：西安某金属材料研究院
设备名称：三温区PECVD
工作温度：≤1200℃
设备用途：金属粉末材料的化学气相沉积法镀膜。
客户现场实拍图
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