碳纳米管生长CVD
分类：管式炉案例 阅读： 次 时间：2025-09-11
案例简介
设备介绍：这款CVD集成了加热、高精度质量流量计供气、精密气化、高真空系统，整套设备可在真空/气氛保护环境下工作。采用触摸屏界面友好、实用，可显示和监控设备运行状态，可调用、编辑和存储烧结工艺，并具动态显示、历史数据可记录并导出功能。
用户单位：江苏某半导体材料公司
设备名称：CVD系统
工作温度：≤1200℃
设备用途：用于碳纳米管生长。
客户现场实拍图
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