双温区CVD-用于纳米材料、石墨烯等研发

钟罩式气氛炉-用于陶瓷材料镀石墨烯涂层

CVD设备-用于石墨烯生长

三温区管式炉-用于脱硫处理

立式CVD-用于TaC、HfC等物料涂层沉积研究

箱式气氛炉-用于金属或陶瓷材料的烧结

箱式气氛炉-用于微晶玻璃的制备

立式PECVD-用于粉末材料表面沉积薄膜

1600℃旋转管式炉-用于锂电池阴极材料

1600℃真空烧结炉-材料的真空钎焊及冶炼

1800℃真空炉-多种材料的真空烧结

500℃真空烧结炉-用于金属元件热处理