CVD管式炉（化学气相沉积系统）通过将含有薄膜元素的气态反应剂（如硅烷、氮气）或液态反应剂的蒸气引入高温反应室，在衬底表面发生化学反应生成固态薄膜。
基本参数最高温度：1700℃ 工作温度：≤1000℃；≤1100℃；≤1300℃；≤1600℃ 真 空 度：10pa~10⁻³Pa 控温精度：±1℃ 工艺应用：适用于CVD工艺，如碳化硅镀膜、ZnO纳米结构的可控生长等。
在线客服咨询热线：18137195607通过调节前驱体比例、温度、压力等参数，提升工艺稳定性。
可实现从低真空（10⁻¹-10⁻² Pa）到高真空（10⁻³Pa）的精确控制。
支持同时引入多种气体，满足复杂化合物薄膜的沉积需求。
PID温控系统和智能报警系统，简化操作流程，保障实验安全。
| 名称 | CVD | ||
| 型号 | HL-CVD1200 | HL-CVD1400 | HL-CVD1700 |
| 最高温度 | 1200℃ | 1400℃ | 1700℃ |
| 工作温度 | 1100℃ | 1300℃ | 1600℃ |
| 加热元件 | 电阻丝 | 硅碳棒 | 硅钼棒 |
| 热电偶 | N型 | S型 | B型 |
| 炉管外径 | φ40~φ100mm |
φ60~φ100mm |
φ60~φ100mm |
| 加热区长度 |
200~440mm |
300~440mm |
300~440mm |
| 温区数量 | 单温区/多温区，根据客户需求选择 | ||
| 其他尺寸可按客户需求定制 | |||
| 控温方式 | PID控制和自整定调节，智能化30段可编程 | ||
| 温控保护 | 超温和断偶保护功能 | ||
| 加热速率 | 建议0~10°C/min | ||
| 温控精度 | ±1℃ | ||
| 工作电源 | 220/380V,50HZ( 按需求定制) | ||
| 炉膛材质 | 高纯氧化铝耐火纤维 | ||
| 炉壳结构 | 碳钢外壳，双层壳体并配有风冷系统 | ||
| 炉体结构 | 卧式，可选上开启式炉门/密封炉门 | ||
| 真空系统 | 旋片泵/扩散泵/分子泵（可选配） | ||
| 极限真空度 | ≤6.67* 10-3Pa（空炉，冷态，经净化） | ||
| 流量计 | 浮子流量计/质子流量计，可选 | ||
| 冷却系统（选配） | 水冷机 | ||
| 其他可选配置 | 触摸屏，远程操作，电脑显示 | ||
| 尺寸（炉管外径*加热区长度） | HL-CVD1200 | HL-CVD1400 | HL-CVD1700 |
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φ40*200mm φ50*200mm φ60*300mm φ80*300mm φ100*300mm φ60*440mm φ80*440mm φ100*440mm |
φ60*300mm φ80*300mm φ100*300mm φ60*440mm φ80*440mm |
φ60*300mm φ80*300mm φ100*300mm φ60*440mm |
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多温区 φ60*220*220mm φ80*220*220mm φ100*220*220mm φ120*220*220mm φ60*220*220*220mm φ80*220*220*220mm φ100*220*220*220mm φ120*220*220*220mm |
多温区 φ60*220*220mm φ80*220*220mm φ100*220*220mm φ60*220*220*220mm φ80*220*220*220mm φ100*220*220*220mm |
多温区 φ60*220*220mm φ80*220*220mm φ100*220*220mm φ60*220*220*220mm φ80*220*220*220mm φ100*220*220*220mm |
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| 其他尺寸可按客户需求定制 | |||
以上参数可根据工艺要求进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准。
炉管材质
河南鸿炉CVD的炉管材料分为合金、石英、刚玉等，根据客户的不同需求，可以选择需要的炉管材质。
加热区尺寸
加热区客户可以根据处理材料的大小选择适合的尺寸。
气氛条件
气氛条件一般可通气氛为氮气、氩气等惰性气体，如果需要通入气体，可以单独设计气体进出口。
真空环境
利用机械泵与分子泵组合，可实现从低真空（10⁻¹-10⁻² Pa）到高真空（10⁻³Pa）的精确控制。
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立式CVD系统
碳纳米管生长CVD
