真空烧结炉

氮化铝烧结炉


氮化铝烧结炉

工艺应用:碳化硅真空烧结炉主要应用于硬质合金、铜钨合金等金属以及由难熔炼金属组成的合金材料的真空烧结,以及陶瓷材料、碳化硅的高温烧结。

最高温度:≤1950℃

工作温度:

真空度:5Pa

温度均匀性:±5℃

温控精度:±1℃

可通气氛:

可编程段:

压升率:≤0.67pa/h

可选型号:

材质:

气路通道:

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产品简介

        氮化铝真空烧结炉采用特殊的炉胆结构和加热器布置,炉温均匀性好;抗污染能力强;炉膛材质采用国际领先的碳毡、加热元件采用石墨发热体,最高温度可达1950℃;测温装置:钨铼偶+红外测温仪;精准的气氛系统,宽幅气流流动,良好气氛均匀性。高效快冷,冷却时间:≤8h,急速快冷炉:≤3h;可具备真空烧结、负压脱脂烧结、载气脱脂烧结等功能;可选配脱脂系统,实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。


应用领域

      氮化铝真空烧结炉主要应用于发动机叶片、氮化物陶瓷粉体、氮化物制品、氮化铝基板、氮化硼基板、氮化物制品, 氮化铝粉等高性能陶瓷的真空脱脂烧结等工艺。


优势特点
  • 全自动化智能控制
  • 热效率高,抗污能力强
  • 双级压力保护,安全可靠
  • 拓展性强,可实现多种工艺

全自动化智能控制, 自动生产单炉次运行曲线报表。

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采用特殊的炉胆结构和加热器布置,辐射面积大,优化的加热室结构,升温快,保温效果好,节能降耗,抗污染能力强。

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双级压力保护,适应不同压力异常情况,降低了因单一保护装置失效而导致安全事故的风险,提高了整个系统的可靠性和稳定性。 

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具备真空烧结、分压烧结、负压脱脂烧结、微正压烧结等功能;可选配脱脂系统,实现陶瓷制品的脱脂烧结一次性处理。

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技术参数


型号

有效加热区尺寸

宽*高*深(mm)

最高温度(℃)极限真空度(pa)温度均匀性(℃)压升率(pa/h)装载量 (kg)

HL-V1950-96W

400*400*600

1950

5

±5

0.67120

HL-V1950-175W

500*500*700

1950

5

±50.67200
HL-V1950-324W

600*600*900

1950

5

±50.67300


以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。


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