真空烧结炉

氧化物陶瓷烧结炉


氧化物陶瓷烧结炉

工艺应用:氧化物陶瓷烧结炉主要用于氧化物及其他陶瓷粉体和制品的烧结。

最高温度:1600~1800℃

工作温度:

真空度:10-3Pa-100pa

温度均匀性:±5℃

温控精度:±1℃

可通气氛:

可编程段:

压升率:≤0.67pa/h

可选型号:

材质:

气路通道:

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产品简介

       氧化物陶瓷烧结炉采用特殊的炉胆结构和加热器布置,炉温均匀性好;具备柔性抽真空,真空烧结、微正压烧结、分压烧结等功能;采用先进的隔热结构和材料,炉胆隔热性能好、蓄热少,比传统设计节能20%以上;该设备的机构设计先进合理,设计及制造符合相应的国家及行业标准和规范能够满足用户的使用要求。其配套的产品和元器件具有国际先进水平,自能够适应长期、稳定、安全、可靠的生产需求,设备的节能效果良好。设备的使用、操作、维修方便简捷,造型美观,安全可靠,售后服务快速高效。


应用领域

     真空(脱脂)烧结炉(氧化物陶瓷)主要用于氧化物及其他陶瓷粉体和制品的烧结。例如:氧化铝粉体与制品、氧化锆粉体与制品、硼化锆粉体与制品、透明陶瓷等。


优势特点
  • 节能20%以上
  • 热效率高,温场均衡
  • 脱脂功能可配置
  • 多种烧结工艺

采用先进的隔热结构和材料,炉胆隔热性能好、蓄热少,比传统设计节能20%以上。

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加热元件布置合理,辐射面积大,优化的加热室结构,升温快,保温效果好,节能降耗

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可配专业脱脂装置,实现脱脂烧结一体化,节约时间,提高工作效率。

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具备柔性抽真空,真空烧结、微正压烧结、分压烧结等功能。

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技术参数


型号

有效加热区尺寸

宽*高*深(mm)

最高温度(℃)极限真空度(pa)温度均匀性(℃)压升率(pa/h)

HL-V1800-96W

400*400*600

1600~1800

10-3Pa-100pa

±5

0.67

HL-V1800-175W

500*500*700

1600~1800

10-3Pa-100pa

±50.67

HL-V1800-324W

600*600*900

1600~1800

10-3Pa-100pa

±50.67

HL-V1800-768W

800*800*1200

1600~1800

10-3Pa-100pa

±50.67


以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。


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