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热销产品: 管式炉 真空炉 气氛炉 CVD/PECVD 箱式炉
案例简介
单位名称:郑州某研究所
设备名称:三温区立式流化床
工作温度:≤1200℃
设备用途:用于氧化铝粉末表面沉积的CVD实验。
设备介绍
这款流化床立式管式炉,是专门针对粉末表面沉积的CVD实验而设计,炉管为高纯石英管,炉管内部带有砂芯版,粉末可放在多孔石英板上,气体可从炉管下端通入,通过多孔石英板使样品颗粒悬浮在加热区域,进行沉积实验。预留有进、出气口,真空泵接口,可搭配真空泵使用。
三温区管式炉-用于脱硫处理
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