管式炉

RTP快速退火炉

工艺应用:可在真空、气氛环境下,对样品进行快速热处理,专为半导体或太阳能电池基片的退火而设计。

最高温度:≤1200℃

工作温度:≤1100℃

真空度:可选

温控精度:±1℃

可通气氛:可选

可编程段:30段

可选型号:单温区/多温区RTP炉,真空/气氛RTP炉

材质:炉管-石英

气路通道:

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产品简介

RTP快速退火炉是一款可以快速热处理的管式炉,配有石英腔体和真空法兰,采用卤素灯加热,升温速度可达50℃/秒,PID自动控制,30段可编程序,它是专为半导体或太阳能电池基片的退火而设计。该快速退火管式炉可在真空、气氛环境下,对样品进行快速热处理,主要应用于院校实验室、工矿企业实验室,如:薄膜沉积,不同材料快速退火、硅化、扩散、晶化和致密化等。

 


应用领域

产品展示

优势特点
  • 滑轨式设计,可实现快速冷却
  • 微电脑PID控制,温控精度达±1℃
  • 多晶纤维炉膛 ,节能耐腐蚀
  • 超温保护和报警,安全系数高

炉子的底部安装有一对滑轨,可使炉子从炉管的一侧滑动到另一侧,以实现快速加热和快速冷却,是低成本快速热处理的理想设备。

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采用智能温度控制系统,具有 PID 调节,自整定功能,可编制 30 段升降温程序,温控精度达±1℃,数据可存储可输出

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炉膛采用高纯度多晶纤维材质,具有重量轻、升温速度快、节能、省时、耐高温、耐腐蚀、保温性好等优点,能满足何种快速烧结的要求

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具备高温报警、过流保护、过载保护等功能,部分还设有超温自动保护功能,确保设备的安全运行,防止因异常情况导致设备损坏或安全事故发生。

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技术参数
名称RTP快速退火炉
处理晶圆尺寸:2英寸处理晶圆尺寸:4英寸处理晶圆尺寸:6英寸
炉管外径100mm炉管外径110~150mm炉管外径180~200mm
加热区尺寸200mm加热区尺寸300mm加热区尺寸400mm
最高温度1000℃
工作温度≤900℃
加热元件红外灯
热电偶N型
炉管材质石英
控温方式PID控制和自整定调节,智能化30段可编程
温控保护超温和断偶保护功能
加热速率建议0~50°C/min
温控精度±1℃
温区数量单温区
炉膛材质高纯氧化铝耐火纤维
炉壳结构碳钢外壳,双层壳体并配有风冷系统
炉体结构开启式 滑道式
工作环境常压/真空状态/气氛状态
工作电源220/380V,50HZ( 按需求定制)
密封不锈钢真空法兰,带阀门和一个机械压力表
其他可选配置流量计,真空系统,触摸屏,远程控制,电脑显示

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