产品简介

真空/气氛管式炉是采用双层壳体结构和智能化程序控温系统，移相触发、可控硅控制，炉膛材料采用氧化铝多晶体纤维材料，双层炉壳间配有风冷系统，可以通气氛抽真空（选用分子泵抽真空）。该系列管式炉是科佳结合多年热处理炉生产经验，设计生产的新型真空气氛管式炉，具有安全可靠，操作简单，控温精度高，保温效果好，炉膛温度   均匀性高，可抽真空和充入各种保护气体或破坏性气体等特点，广泛用于高等院校、科研院所、工矿企业等实验和小批量生产。

应用领域

真空/气氛管式炉是一种常用的实验型热处理设备，具体应用如下：

材料科学领域：真空或气氛条件下纳米材料、陶瓷材料、高温超导材料以及复合材料的预烧、烧结、高温热解。

金属退火与烧结：金属或合金材料的退火、淬火等热处理，改变其组织结构和性能。

各种CVD实验：真空镀膜、碳化硅镀膜、陶瓷基片导电率测试、ZnO纳米结构的可控生长等。