箱式结构设计，操作简单，维护方便

箱式工作温度范围300-1700℃，可用于材料的烧结、热处理、热解炭化、灰化、脱脂、材料分析等，炉体结构可选立式、卧式、井式、升降式、一体式、分开式等。

控温精度高，可抽真空通气氛

管式炉工作温度范围300-1700℃，适用于需要精确控制气氛和温度的实验。主要分为卧式/立式管式炉、真空/气氛管式炉、旋转管式炉、多工位管式炉、单温区管式炉、多温区管式炉、滑轨式管式炉、石英管式炉、刚玉管式炉等。

回转式设计，热处理反应更充分

旋转管式炉主要针对样品在真空或者保护气氛下对样品的热处理，工作温度范围300-1700℃。主要分为实验型旋转管式炉、大口径旋转炉、真空/气氛旋转炉、单/多温区旋转炉、自动进出料旋转炉、连续/间歇式旋转炉等。

箱式密封结构，可通气氛

气氛炉分为 1000℃以下气氛炉、1000℃、1200℃、1300℃、1400℃、1600℃、1700℃等不同温度等级，可用于多种气氛条件下的材料陶瓷烧结、精密退火、粉末冶金、高温热处理等领域的实验和小批量生产。炉体结构可选立式、卧式、井式、升降式、一体式、分开式等。

真空度可选，多炉型可定制

真空电炉工作温度300-2000℃，真空度可选，主要包括真空烧结炉，真空钎焊炉，真空退火炉，真空回火炉、真空碳管炉、石墨真空炉、真空钼带炉等多种炉型，更多参数需求可定制。

高精度控制系统，成膜均匀性高

CVD/PECVD系统工作温度为300℃至1700℃，配备真空泵，气体混合装置。设备易于操作，有非常好的隔热效果和温度均匀性。 主要用于大学，研究中心和生产企业进行气相沉积相关的实验与小批量生产。

原厂配件可按需选择

种类齐全的加热元件（电阻丝、硅钼棒、硅碳棒等）、炉管（合金管、石英管、刚玉管等）、浮子流量计/质子流量计、真空泵，可按需选择。