案例简介
客户单位:大连某高校
设备名称:立式PECVD
设备用途:在粉末材料表面沉积薄膜 ;气固反应:如二氧化碳加氢,色谱检测产物,比如一氧化碳,甲烷,甲醇等产物;处理金属氧化物,燃烧还原。
设备优势
1.占地小功能强大,集成了加热、射频、精准质量流量计供气、精密气化、高真空系统。
2.射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度,减少了高温对薄膜的损坏。
3.可根据射频电源的功率来进行控制薄膜的应力。
4.用石英管可直观看到等离子发光。
5.整套设备可在真空/气氛保护环境下工作。
6.触摸屏界面友好、实用,可显示和监控设备运行状态,可调用、编辑和存储烧结工艺,并具动态显示、历史数据可记录并导出功能。
立式PECVD客户现场实拍图