CVD/PECVD

立式PECVD-用于粉末材料表面沉积薄膜

2024/10/30


案例简介

客户单位:大连某高校

设备名称:立式PECVD

设备用途:在粉末材料表面沉积薄膜 ;气固反应:如二氧化碳加氢,色谱检测产物,比如一氧化碳,甲烷,甲醇等产物;处理金属氧化物,燃烧还原。

设备优势

1.占地小功能强大,集成了加热、射频、精准质量流量计供气、精密气化、高真空系统。

2.射频电源可实现等离子增强从而显著降低实验温度,减少了高温对薄膜的损坏。

3.可根据射频电源的功率来进行控制薄膜的应力。

4.用石英管可直观看到等离子发光。

5.整套设备可在真空/气氛保护环境下工作。

6.触摸屏界面友好、实用,可显示和监控设备运行状态,可调用、编辑和存储烧结工艺,并具动态显示、历史数据可记录并导出功能。

立式PECVD客户现场实拍图

水印-大连理工pecvd.jpg






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