2024/10/30
案例简介
客户单位：重庆某研究所
设备名称：立式高温CVD设备
设备用途：主要用于TaC、HfC等物料及其复合碳化物等超高熔点涂层化学气相沉积制备工艺研究。
设备优势
1.占地小功能强大，集成了高温反应室、固态材料气化室、多种气体精准质量流量计、真空系统、冷却系统。
2.整套设备可在真空/气氛保护环境下工作。
3.触摸屏界面友好、实用，可显示和监控设备运行状态，可调用、编辑和存储烧结工艺，并具动态显示、历史数据可记录并导出功能。
4.管路及相关仪表耐腐蚀。
5.气化后的气体运输过程中无冷凝，不堵塞管路。
立式CVD客户现场实拍图
