CVD设备-用于石墨烯生长

2024/10/30

案例简介

客户单位：西安某高校

设备名称：CVD化学气相沉积炉

设备用途：主要做石墨烯生长或者其他材料的气氛退火。

设备优势

1.占地小功能强大，集成了加热、精准质量流量计供气、高真空系统。

2.整套设备可在真空/气氛保护环境下工作。

3.加热炉体可根据需要手动滑动到理想位置，实现快冷快热。

4.双温区控温，可根据需要延长恒温区，或者实现温度梯度。

 CVD客户现场实拍图