2024/10/30
案例简介
客户名称：西安某金属材料研究院
设备名称：三温区PECVD
工作温度：≤1100℃
设备用途：金属粉末材料的化学气相沉积法镀膜。
设备介绍
这款PECVD设备由管式炉、真空系统、气体供应系统、射频电源系统等组成。该PECVD通过射频电源将石英真空室中的气体改变为离子状态，等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜。，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜, 该系统主要用于金属粉末镀膜中。
三温区PECVD设备客户现场实拍图
