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碳化硅反应烧结炉

设备概况

碳化硅反应烧结炉是专为碳化硅(SiC)陶瓷及其复合材料设计的高温烧结设备,通过真空或惰性气氛环境下的化学反应与物理过程,实现粉末材料的致密化烧结。

基本参数

最高温度:1800℃ 工作温度:≤1800℃ 真 空  度:5Pa 材      质: 均 温  性: 压 升  率:≤0.67pa/h 控温精度: 适用物料: 工艺应用:专为碳化硅(SiC)陶瓷及其复合材料设计的真空烧结设备。

在线客服咨询热线:18137195607
产品介绍
       碳化硅反应烧结炉应用于硬质合金、铜钨合金等金属以及由难熔炼金属组成的合金材料的真空烧结,以及陶瓷材料、碳化硅的高温烧结。该设备的机构设计先进合理,设计及制造符合相应的国家及行业标准和规范能够满足用户的使用要求。配套的产品和元器件安全耐用,自能够适应长期、稳定、安全、可靠的生产需求,设备的节能效果良好。设备的使用、操作、维修方便简捷,造型美观,安全可靠,售后服务快速高效。kNo河南鸿炉机械
 
产品优势
工作效率高

 加热元件布置合理,辐射面积大,优化的加热室结构,升温快,保温效果好,节能降耗。

双级压力保护

双级压力保护,适应不同压力异常情况,降低了因单一保护装置失效而导致安全事故的风险,提高了整个系统的可靠性和稳定性。     

多重冷凝补集

集成快速冷却,提高生产效率; 多种冷凝补集方式,延长真空泵寿命。

更省空间,节约购机成本

可制定一拖二结构,可以利用两个炉体同时进行不同工艺参数或不同材料的实验研究,提高科研效率和数据的对比性。

技术参数
型号

有效加热区尺寸

宽*高*深(mm)

最高温度(℃) 极限真空度(pa) 温度均匀性(℃) 压升率(pa/h) 装载量 (kg)

HL-V1800-936W

600*600*2600

1800

5

±5

0.67 600

HL-V1800-1260W

600*600*3500

1800

5

±5 0.67 800

HL-V1800-1470W

700*700*3000

1800

5

±5 0.67 1000

HL-V1800-1960W

700*700*4000

1800

5

±5 0.67 1200

HL-V1800-2200W

700*700*4500

1800

5

±5 0.67 1500

 

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

 

定制服务
  • 炉膛材质

    炉膛材料分为氧化铝陶瓷纤维、石墨、金属钼屏等,根据客户的不同需求,可以选择需要的炉膛材质。

  • 炉膛尺寸

    从小型(如300×200×200mm)到大型(如800×800×800mm)均可灵活调整,也可根据特殊需求制作异形炉膛。

  • 气氛条件

    气氛条件一般可通气氛为氮气、氩气等惰性气体,如果需要通入气体,可以单独设计气体进出口。

  • 真空环境

    利用不同的真空泵组合,可实现从低真空(10⁻¹-10⁻² Pa)到高真空(10⁻³Pa)的精确控制。

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