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石墨真空炉

设备概况

石墨真空炉具有高温稳定性、抗氧化性、耐腐蚀性、均匀加热能力及环保优势,这些特性使其在处理敏感材料、精密零件及高纯度材料时具有显著优势。

基本参数

最高温度:2200℃ 工作温度:≤1100℃;≤1300℃;≤1600℃;≤1700℃;≤2100℃ 真 空  度:≤6.67X10⁻³Pa 材      质: 均 温  性: 压 升  率: 控温精度: 适用物料: 工艺应用:用于金属材料、半导体材料和高级陶瓷等的高温烧结、回火、退火等。

在线客服咨询热线:18137195607
产品介绍
         石墨真空炉采用高纯度石墨作为发热体,石墨具有良好的耐高温性、低热膨胀系数和导热性。在真空环境中,石墨的挥发极少,稳定性高,最高工作温度可达2100℃。真空系统通过机械泵、扩散泵或分子泵组合实现高真空(极限真空度可达6.67X10⁻³),避免材料氧化或污染,尤其适合活泼金属(如钛、锆)或高纯材料处理;该真空炉还可通过惰性气体(如氩气、氮气)保护,满足复杂工艺需求。
产品优势
石墨热场,耐酸碱腐蚀

石墨材料对大多数酸、碱和盐具有很高的耐腐蚀性,适合高纯度材料的处理,如半导体材料和高级陶瓷。

消除氧化与污染,提升材料纯度

配备真空系统,可将炉膛内抽至高真空状态(极限真空度10⁻³Pa),减少炉内氧气含量,防止材料在高温下氧化。

气体流量可控制

支持通入多种气体(如氮气、氩气、氢气等),满足不同材料在烧结、热处理等过程中的特殊气氛要求。

支持多段编程

用户能够自由设定各阶段的温度、升温速率、保温时间等参数,满足复杂的热处理工艺需求。

技术参数
名称 真空炉(石墨热场)
型号 HL-VS1200 HL-VS1400 HL-VS1700 HL-VS1800 HL-VS2200
最高温度 1200℃ 1400℃ 1700℃ 1800℃ 2200℃
工作温度 ≤1100℃ ≤1300℃ ≤1600℃ ≤1700℃ ≤2100℃
加热元件 石墨 石墨 石墨 石墨 石墨
热电偶 N型 S型 B型 镍丝/红外 钨铼合金
控温方式 PID控制和自整定调节,智能化30段可编程
温控保护 超温和断偶保护功能
加热速率 建议0~10°C/min
温控精度 ±1℃
工作电源 220/380V,50HZ( 按需求定制)
炉壳结构 碳钢外壳,双层壳体
炉体结构 卧式/立式,根据客户需求选择
真空系统 旋片泵/罗茨泵/扩散泵(可根据需求搭配)
极限真空度 6.67*10-3pa
冷却系统(选配) 水冷机/水冷塔
其他可选配置 触摸屏,分子泵,真空阀门自动控制,电脑显示
炉膛尺寸-宽*高*深(mm)
150*150*200 200*200*300 300*300*400 400*400*500 400*400*600 500*500*700
600*600*900          
其他尺寸可按客户需求定制

 

 

以上参数可根据工艺要求进行调整,不作为验收依据,具体以技术方案和协议为准。

定制服务
  • 炉膛材质

    炉膛材料分为氧化铝陶瓷纤维、石墨、金属钼屏等,根据客户的不同需求,可以选择需要的炉膛材质。

  • 炉膛尺寸

    从小型(如300×200×200mm)到大型(如800×800×800mm)均可灵活调整,也可根据特殊需求制作异形炉膛。

  • 气氛条件

    气氛条件一般可通气氛为氮气、氩气等惰性气体,如果需要通入气体,可以单独设计气体进出口。

  • 真空环境

    利用不同的真空泵组合,可实现从低真空(10⁻¹-10⁻² Pa)到高真空(10⁻³Pa)的精确控制。

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