这款真空炉通过真空环境与高纯钼热场的结合，实现高质量、无污染的热处理效果。
基本参数最高温度：1400℃ 工作温度：≤1100℃;≤1300℃ 真 空 度：≤6.67X10⁻³Pa 工艺应用：用于对材料纯度要求高的热处理（如半导体材料、航空航天合金）。
在线客服咨询热线：18137195607金属钼热场，在高温下化学稳定性非常好，无材料污染风险，适合对材料纯度要求高的处理工艺。
配备真空系统，可将炉膛内抽至高真空状态（极限真空度10⁻³Pa），减少炉内氧气含量，防止材料在高温下氧化。
支持通入多种气体（如氮气、氩气、氢气等），满足不同材料在烧结、热处理等过程中的特殊气氛要求。
用户能够自由设定各阶段的温度、升温速率、保温时间等参数，满足复杂的热处理工艺需求。
| 名称 | 真空炉（钼加热） | |
| 型号 | HL-VX1200 | HL-VX1400 |
| 最高温度 | 1200℃ | 1400℃ |
| 工作温度 | ≤1100℃ | ≤1300℃ |
| 加热元件 | 钼带 | 钼镧合金 |
| 热电偶 | N型 | S型 |
| 控温方式 | PID控制和自整定调节，智能化30段可编程 | |
| 温控保护 | 超温和断偶保护功能 | |
| 加热速率 | 建议0~10°C/min | |
| 温控精度 | ±1℃ | |
| 工作电源 | 220/380V,50HZ( 按需求定制) | |
| 炉膛材质 | 金属隔热屏 | |
| 炉壳结构 | 双层壳体 | |
| 炉体结构 | 卧式 | |
| 真空系统 | 旋片泵/罗茨泵/扩散泵（可根据需求搭配） | |
| 极限真空度 | 6.67*10-3pa | |
| 冷却系统（选配） | 水冷机 | |
| 其他可选配置 | 触摸屏，分子泵，真空阀门自动控制，电脑显示 | |
| 炉膛尺寸-宽*高*深（mm） | ||
| 150*150*200 | 200*200*300 | 300*300*400 |
| 400*400*500 | 400*400*600 | 500*500*700 |
| 600*600*900 | ||
| 其他尺寸可按客户需求定制 | ||
以上参数可根据工艺要求进行调整，不作为验收依据，具体以技术方案和协议为准。
炉膛材质
炉膛材料分为氧化铝陶瓷纤维、石墨、金属钼屏等，根据客户的不同需求，可以选择需要的炉膛材质。
炉膛尺寸
从小型（如300×200×200mm）到大型（如800×800×800mm）均可灵活调整，也可根据特殊需求制作异形炉膛。
气氛条件
气氛条件一般可通气氛为氮气、氩气等惰性气体，如果需要通入气体，可以单独设计气体进出口。
真空环境
利用不同的真空泵组合，可实现从低真空（10⁻¹-10⁻² Pa）到高真空（10⁻³Pa）的精确控制。
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